เป้าหมายของเป้าหมายโมลิบดีนัมคืออะไร?

Apr 02, 2025 ฝากข้อความ

เนื่องจากโมลิบดีนัมมีลักษณะของจุดหลอมเหลวสูงการนำไฟฟ้าสูงความต้านทานเฉพาะต่ำความต้านทานการกัดกร่อนที่ดีและการป้องกันสิ่งแวดล้อมเป้าหมายโมลิบดีนัมจึงถูกนำมาใช้อย่างกว้างขวางในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์เช่นการแสดงแผงแบนเซลล์แสงอาทิตย์แบบฟิล์มบาง ๆ อิเล็กโทรดและวัสดุสายไฟ ตอนนี้ให้บรรณาธิการและทุกคนรู้เกี่ยวกับลักษณะของเป้าหมายโมลิบดีนัมในผลิตภัณฑ์ Tungsten-Molybdenum?

 

1. เป้าหมายโมลิบดีนัมที่มีความบริสุทธิ์สูง

 

ยิ่งความบริสุทธิ์ของเป้าหมายโมลิบดีนัมสูงขึ้นเท่าใดการแสดงของฟิล์มสปัตเตอร์ก็ยิ่งดีขึ้นเท่านั้น โดยทั่วไปความบริสุทธิ์ของเป้าหมายโมลิบดีนัมสปัตเตอร์จะต้องไปถึงอย่างน้อย 99.95% อย่างไรก็ตามด้วยการปรับปรุงอย่างต่อเนื่องของขนาดของพื้นผิวแก้วในอุตสาหกรรม LCD จำเป็นต้องขยายความยาวของการเดินสายไฟและความกว้างของเส้นจะต้องบางลง เพื่อให้แน่ใจว่าความสม่ำเสมอของภาพยนตร์และคุณภาพของการเดินสายความต้องการความบริสุทธิ์ของเป้าหมายโมลิบดีนัมสปัตเตอร์ได้รับการปรับปรุงให้ดีขึ้นเช่นกัน ดังนั้นตามมาตราส่วนของสารตั้งต้นแก้วสปัตเตอร์และสภาพแวดล้อมการใช้งานความบริสุทธิ์ของเป้าหมายโมลิบดีนัมสปัตเตอร์จะต้องเป็น 99.99% -99. 999% หรือสูงกว่า

 

2. เป้าหมายโมลิบดีนัมความหนาแน่นสูง

 

ในระหว่างกระบวนการเคลือบสปัตเตอร์เมื่อเป้าหมายสปัตเตอร์ที่มีความหนาแน่นต่ำถูกทิ้งระเบิดก๊าซในรูขุมขนภายในของเป้าหมายจะถูกปล่อยออกมาอย่างกะทันหันส่งผลให้อนุภาคเป้าหมายขนาดใหญ่หรืออนุภาคไมโครโปรตีนสาดหรือหลังจากฟิล์มเกิดขึ้นฟิล์มถูกทิ้งระเบิดโดยอิเล็กตรอนรอง การปรากฏตัวของอนุภาคเหล่านี้จะลดคุณภาพของฟิล์ม เพื่อลดรูขุมขนในเป้าหมายที่เป็นของแข็งและปรับปรุงประสิทธิภาพของภาพยนตร์โดยทั่วไปเป้าหมายการสปัตเตอร์จะต้องมีความหนาแน่นสูงขึ้น สำหรับเป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัมความหนาแน่นสัมพัทธ์ควรสูงกว่า 98%

 

3. ขนาดเกรน

 

โดยทั่วไปเป้าหมายโมลิบดีนัมสปัตเตอร์เป็นโครงสร้าง polycrystalline และขนาดของเม็ดสามารถมีตั้งแต่ไมครอนถึงมิลลิเมตร การศึกษาเชิงทดลองแสดงให้เห็นว่าอัตราการสปัตเตอร์ของเป้าหมายเกรนละเอียดนั้นเร็วกว่าของเมล็ดหยาบและการกระจายความหนาของฟิล์มที่สะสมนั้นมีความสม่ำเสมอสำหรับเป้าหมายที่มีความแตกต่างของขนาดเกรนที่เล็กกว่า

 

4. ทิศทางการตกผลึก

 

ในระหว่างการสปัตเตอร์อะตอมเป้าหมายจะถูกสปัตเตอร์ตามทิศทางของการจัดเรียงหกเหลี่ยมของอะตอม ดังนั้นเพื่อให้ได้อัตราการสปัตเตอร์อัตราการสปัตเตอร์มักจะเพิ่มขึ้นโดยการเปลี่ยนโครงสร้างผลึกเป้าหมาย ทิศทางการตกผลึกของเป้าหมายยังมีอิทธิพลอย่างมากต่อความหนาที่สม่ำเสมอของฟิล์มสปัตเตอร์ ดังนั้นการได้รับโครงสร้างเป้าหมายที่มีการวางแนวคริสตัลบางอย่างจึงมีความสำคัญต่อกระบวนการสปัตเตอร์ของฟิล์ม

 

5. การนำความร้อนและไฟฟ้า

 

ผู้ผลิตผลิตภัณฑ์ทังสเตนและโมลิบดีนัมบอกคุณว่าก่อนสปัตเตอร์เป้าหมายโมลิบดีนัมสปัตเตอร์จะต้องเชื่อมต่อกับทองแดงปราศจากออกซิเจน (หรืออลูมิเนียมและวัสดุอื่น ๆ ) แชสซีเพื่อให้แน่ใจว่าการนำความร้อนและไฟฟ้าของเป้าหมายและแชสซีเป็นสิ่งที่ดีในระหว่างกระบวนการสปัตเตอร์ หลังจากมีผลผูกพันมีความจำเป็นที่จะต้องผ่านการตรวจสอบอัลตราโซนิกเพื่อให้แน่ใจว่าพื้นที่ที่ไม่ผูกมัดระหว่างทั้งสองนั้นน้อยกว่า 2%เพื่อให้เป็นไปตามข้อกำหนดของการสปัตเตอร์พลังงานสูงโดยไม่ตก

 

6. ประสิทธิภาพเป้าหมายโมลิบดีนัม

 

ความบริสุทธิ์: โมลิบดีนัมบริสุทธิ์มากกว่าหรือเท่ากับ 99.95% โมลิบดีนัมอุณหภูมิสูงมากกว่าหรือเท่ากับ 99% (มีองค์ประกอบของโลกหายากเพิ่ม)

ความหนาแน่น: มากกว่าหรือเท่ากับ 10.2g/cm3

จุดหลอมเหลว: 2610 องศา

ข้อมูลจำเพาะ: เป้าหมายกลม, เป้าหมายเพลต, เป้าหมายหมุน

สภาพแวดล้อมที่ใช้งานได้: สภาพแวดล้อมสูญญากาศหรือสภาพแวดล้อมการป้องกันก๊าซเฉื่อย, โมลิบดีนัมบริสุทธิ์ในผลิตภัณฑ์ทังสเตน-โมลิเบนเนียมสูงกว่าความต้านทานอุณหภูมิสูง 1200 องศาโลหะผสมโมลิบดีนัมสูงกว่าและความต้านทานอุณหภูมิสูง 1700 องศา