เซมิคอนดักเตอร์ปั่นปูนแทนทาลัม

เกรด: RO5200 RO5400
จุดหลอมเหลว: 2980 องศา
จุดเดือด: 5370 องศา
ความหนาแน่น: 16.6g/cm³
ความบริสุทธิ์: มากกว่าหรือเท่ากับ 99.95%
มาตรฐานการใช้งาน: ASTM B708 ​​GB/T 3629-2006
ส่งคำถาม
คำอธิบาย

เนื่องจากความต้านทานอุณหภูมิสูงความต้านทานการยืดตัวและความต้านทานการกัดกร่อนของวัสดุแทนทาลัมจึงมีร่องรอยการหมุนของสารเซมิคอนดักเตอร์ที่ทำจากแผ่นแทนทาลัมเรียกอีกอย่างหนึ่งว่าไม้กางเขนแทนทาลัม ไม้กางเขนแทนทาลัมส่วนใหญ่จะใช้เป็นภาชนะฉนวนกันความร้อนสำหรับอุปกรณ์การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ ฉนวนกันความร้อนและความเข้มข้นของพลังงานทำให้กระบวนการระเหยมีเสถียรภาพมากขึ้นและผลการระเหยที่สม่ำเสมอมากขึ้น

 

เซมิคอนดักเตอร์ของเราหมุน Curcible Tantalum เป็นเบ้าหลอมคุณภาพสูงที่ออกแบบมาโดยเฉพาะสำหรับกระบวนการที่ต้องการในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์รวมถึงการสะสมแบบฟิล์มบางการสปัตเตอร์และการเคลือบระเหย ทำจากแทนทาลัมที่มีความบริสุทธิ์สูง (TA มากกว่าหรือเท่ากับ 99.99%) ไม้กางเขนเหล่านี้มีความต้านทานต่ออุณหภูมิสูงการกัดกร่อนและการสึกหรอเพื่อให้มั่นใจถึงประสิทธิภาพที่ดีที่สุดในการใช้งานเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูงและฟิล์มบาง ผลิตโดยใช้วิธี SPUN พวกเขาให้ความหนาสม่ำเสมอคุณสมบัติเชิงกลที่เพิ่มขึ้นและความแม่นยำสูงสำหรับกระบวนการเซมิคอนดักเตอร์วิกฤต

 

คุณสมบัติที่สำคัญ

 

esistance ความต้านทานอุณหภูมิสูง-สามารถทนต่ออุณหภูมิสูงถึง 3000 องศาเหมาะสำหรับกระบวนการเซมิคอนดักเตอร์อุณหภูมิสูง
resist ความต้านทานการกัดกร่อนที่ยอดเยี่ยม - ความต้านทานต่อการกัดกร่อนของ Tantalum ในสภาพแวดล้อมที่มีปฏิกิริยาทำให้เหมาะสำหรับการใช้ในการสะสมสุญญากาศและการสปัตเตอร์
✔ความแข็งแรงเชิงกลที่เหนือกว่า - ความต้านทานแรงดึงสูงและความทนทานทำให้มั่นใจได้ว่าอายุการใช้งานที่ยาวนานแม้ภายใต้ความเครียดของการปั่นจักรยานความร้อนสูง
✔ความบริสุทธิ์สูง (มากกว่าหรือเท่ากับ 99.99% TA)-ลดการปนเปื้อนและทำให้มั่นใจได้ว่าผลลัพธ์ที่มีคุณภาพสูงในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์
✔กระบวนการผลิต Spun-ความแม่นยำในการให้ความหนาสม่ำเสมอและคุณสมบัติเชิงกลที่เพิ่มขึ้นทำให้มั่นใจได้ว่าประสิทธิภาพที่สอดคล้องกัน

แอปพลิเคชัน

 

🔹การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ - เหมาะสำหรับใช้ในการสะสมไอสารเคมี (CVD), การสะสมไอทางกายภาพ (PVD) และกระบวนการสปัตเตอร์สำหรับเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์
🔹การสะสมฟิล์มบาง-สำคัญสำหรับการผลิตวัสดุฟิล์มบาง ๆ ในเซลล์แสงอาทิตย์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์และการเคลือบด้วยแสง
🔹เป้าหมายการสปัตเตอร์ - เหมาะสำหรับเป้าหมายสปัตเตอร์แทนทาลัมที่ใช้ในการผลิตไมโครชิปและการผลิตวงจร
🔹การวิจัยและการพัฒนา - เหมาะสำหรับห้องปฏิบัติการและสภาพแวดล้อมการวิจัยและพัฒนาที่ความบริสุทธิ์และความแม่นยำสูงเป็นสิ่งสำคัญสำหรับกระบวนการทดลอง

 

ข้อกำหนดที่มีอยู่

 

วัสดุ: 99.99% แทนทาลัมบริสุทธิ์

เส้นผ่านศูนย์กลาง: φ10mm - φ600mm (ปรับแต่งได้)

ความสูง: น้อยกว่าหรือเท่ากับ 600 มม.

ความหนาของผนัง: 0. 5mm - 5mm

พื้นผิวเสร็จสิ้น: ทำความสะอาดผิวขัดเงาหรือเป็นด่างทำความสะอาด

 

กระบวนการผลิต:

 

Tantalum plate -- การตัด -- การหลอม -- การหมุน -- การตกแต่ง -- การทำความสะอาด -- การทดสอบ -- บรรจุภัณฑ์

ป้ายกำกับยอดนิยม: เซมิคอนดักเตอร์ปั่น Crucible Tantalum, China Semiconductor หมุน Tantalum Crucible Crucible ผู้ผลิตซัพพลายเออร์โรงงาน, ซื้อแผ่นโลหะผสมแทนทาลัม, Tantalum Rod สำหรับงานโลหะ, สกรูโมลิบดีนัมขายโดยตรง, สกรูมัดโมลิบดีนัม, ทังสเตนลวดสำหรับการเคลือบด้วยแสง, สกรูโมลิบดีนัมสำหรับอุปกรณ์ป้องกัน